一、钛靶材的根基机能要求
①纯度是靶材的重要机能指标之一，由于靶材的纯度对薄膜的机能影响很大。不外在现实利用中，对靶材的纯度要求也不尽一样。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽杜咨0.5um减幼到0.25um,0.18um或0.13um，以前99.995%的靶材纯度能够满足0.35umIC的工艺要求，而造备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚zhi99.9999%。
②杂质含量靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的重要传染源。分歧用处的靶材对分歧杂质含量的要求也分歧。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
③密度为了削减靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的机能，通常要求靶材拥有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速度，还影响着薄膜的电学和光学机能。靶材密度越高，薄膜的机能越好。此表，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地接受溅射过程中的扰爪力。密度也是靶材的关键机能指标之一。
④晶粒尺寸及晶粒尺寸散布通常靶材为多晶结构，晶粒大幼可由微米到毫米量级。对于统一种靶材，晶粒藐幼的靶的溅射速度比晶粒粗壮的靶的溅射速度快；而晶粒尺寸相差较幼(散布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度散布更均匀。
二、分歧业业对钛靶材的纯度要求
①集成电路中使用迪胙靶材
集成电路钛靶的纯度要求重要是大于99.995％，高于非集成电路中所用的纯度。?
②平板显示器中使用迪胙靶材
平板显示器蕴含液晶显示器，等离子显示器，电致发鲜明示器和场发射显示器。溅射镀膜技术通常用于沉积平板显示器的薄膜。Al，Cu，Ti和Mo是平板显示器的重要金属溅射靶材。用于平板显示器迪胙靶材的纯度通常必要大于99.9％。
钛作为原料能够通过几种步骤造成钛溅射靶材，可宽泛应运于电子，信息工业，家庭装璜，汽车玻璃造作等高科技领域。在这些行业中，钛靶材重要用于镀膜集成电路，平板等部件的表名义板显示器，或作为装璜及玻璃镀膜等。
